{{ $t('FEZ001') }} 設備組
{{ $t('FEZ002') }} 教務處|
一、本課程通過專家演講、學術報告和實際操作等方式,提升 與半導體原子級鍍膜技術相關的知識和技能;參與者將有 機會深入了解該技術的最新進展、應用前景以及製程優化 並且向參與的教師介紹ALD技術的基礎知識和教學方法,以 及如何在教學中融入現代薄膜沉積技術的相關內容。
二、報名資格:國內各大技專校院及高中職在職教師。
三、課程時間:113年8月13日(二)、8月14日(三),共計2天,凡參與全程課程,且符合報名資格者,將於課程結束 後核發研習時數證明電子檔。
四、課程地點:財團法人國家實驗研究院台灣儀器科技研究中 心(新竹市東區研發六路20號)
五、人數上限:實體30人。(課程免費)
六、報名時間:即日起至113年8月7日(三)17點為止(如人數 額滿將提前截止)。
七、報名網址:請點
{{ $t('FEZ012') }}
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{{ $t('FEZ004') }} 2024-08-14|
{{ $t('FEZ005') }} 103|